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阅读次数:1441 发布时间:2023/6/13 8:51:25
多潘立酮混悬液高速胶体磨,混悬液高剪切胶体磨,胶体磨在混悬剂生产中的应用技术工艺,医药混悬剂改进型胶体磨,混悬液胶体磨,研磨分散机混悬液的制法分为分散法和凝聚法。
1、分散法 将药物粉碎成符合要求的粒度,再分散于液体介质中。疏水性药物制备混悬液时,需先与润湿剂研匀,再将液体分散介质逐渐加入使混悬均匀。
2、凝聚法 包括物理凝聚法和化学凝聚法。系在真溶液中通过改变物理条件(如溶剂组成)或化学反应而形成药物沉淀,控制适当的条件使形成的微粒大小符合要求,再将微粒混悬于分散介质中即可制得。
改进型胶体磨, 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过改进型胶体磨定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优良的材料,可以满足不同行业的多种需求。
影响改进型胶体磨研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散腔体的停留时间,研磨均质时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列改进型胶体磨参数选型表
改进型胶体磨 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
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原创作者:上海依肯机械设备有限公司