奥卡西平口服混悬液高速胶体磨，医药口服混悬液纳米胶体磨，混悬液高速改进型胶体磨
     奥卡西平的低溶解性的理化性质，在奥卡西平药物组合物的制备过程中，奥卡西平原料药的粒径选择，对于药物组合物或者施用剂型具有重要影响，也会明显影响到奥卡西平不同剂型的生物利用度，因此，奥卡西平原料药粒径对奥卡西平口服混悬液剂型体外释放率的影响很大。

     

     超高速胶体磨，特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三机锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
   
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影响胶体磨研磨分散结果的因素有以下几点： 
1 研磨和分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 研磨和分散头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨和分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在研磨分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

CMSD2000系列高速胶体磨参数选型表 

型号	流量 L/H	转速 rpm		线速度 m/s		功率 kw	入/出口连接 DN
CMSD 2000/4	300	14000		41		4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10500		41		11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7200		41		22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4900		41		45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2850		41		90	DN150/DN125
CMSD 2000/50	60000	1100		41		160	DN200/DN150

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
奥卡西平口服混悬液高速胶体磨，医药口服混悬液纳米胶体磨，混悬液高速改进型胶体磨

更新时间：2024/4/10 11:17:21

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