氧化硅纳米颗粒的抛光液高速分散机   抛光液高速分散机 ，CMP抛光液高速分散机 氧化硅抛光液高速分散机 ，氧化铈纳米颗粒的抛光液 高速分散机  纳米材料高速分散机  

抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽 。性能稳定、，对环境等作用 。
抛光液的主要成分：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类 。抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽

氧化硅纳米颗粒的抛光液高速分散机 

由于纳米二氧化硅成本相对较低，且具有良好的分散性、机械磨损性，高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CM P技术用的抛光材料.，因而常被用于金属、蓝宝石、单晶硅、微晶玻璃、光导摄像管等表面精密抛光。

影响分散结果的因素有以下几点

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，chao细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就bu能zai好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

   高的转速和剪切率对于获得chao细微悬浮液是重要的。根据一些行业te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基础上又开发出ERS2000chao gao速分散机。其剪切速率可以chao过14000 rpm，转子的速度可以da到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米。剪切力更强，粒经分布更窄。由于能量密度ji高,无需其他辅助分散设备。

高剪切均质分散机应用于:混悬液 化妆品 色浆 颜料洗涤剂 浆糊 盐溶液 催化剂 涂漆 、 聚合物乳化液 农药(除草剂 杀虫剂) 促进剂 纳米二氧化硅防火液

高剪切均质分散机te别应用于:、 细胞破碎 胶体溶液、 金属氧化物悬浮液、 墨水 印刷涂料 色素色浆  浆料 蒙脱石混悬液 铝镁加混悬液 布洛伪麻混悬液 磺胺嘧啶混悬液 磺胺二甲嘧啶混悬液 等等

速均质分散机设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌速均质分散机电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达速均质分散机电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ速均质分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti速均质分散机表面处理：抛光、耐磨处理速均质分散机进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

氧化硅纳米颗粒的抛光液高速分散机   抛光液高速分散机 ，CMP抛光液高速分散机 氧化硅抛光液高速分散机 ，氧化铈纳米颗粒的抛光液 高速分散机  纳米材料高速分散机 

更新时间：2024/9/29 8:04:08

标签：氧化硅纳米颗粒的抛光液高速分散机         抛光液高速分散机      CMP抛光液高速分散机   氧化硅抛光液高速分散机      氧化铈纳米颗粒的抛光液   高速分散机      纳米材料高速分散机