气相二氧化硅如何解决分散团聚问题 高速分散机 高剪切分散机
气相二氧化硅纳米二氧化硅是其重要的高科技超微细无机新材料,因其粒径很小,比表面积大,表面吸附力强,表面能大,化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能,以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在众多学科及域内独具特性,有着不可取代的作用。纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”,广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体,石油化工,脱色剂,消光剂,橡胶补强剂,塑料充填剂,油墨增稠剂,金属软性磨光剂,绝缘绝热填充剂,高日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各种域。纳米材料在液体体系中的分散,一般是采用下述分散方法来达到分散效果。
1、三辊机 : 利用三辊机或多辊机的辊与辊速度的不同,将研磨料投入加料辊(后辊)和中辊之间的加料沟,二辊以不同速度内向旋转,部分研磨料进入加料缝并受到强大的剪切作用,通过加料缝,研磨料被分为两部分,一部分附加在加料辊上回到加料沟,另一部分由中辊带到中辊和辊之间的刮漆缝,在此又一次受到更强大的剪切力作用。经过刮漆缝,研磨料又分成两部分,一部分由辊带到刮刀处,落入刮漆盘,另一部分再回到加料沟,如此经几次循环,可达到分散的目的。但用三辊机或多辊机进行处理效率低,能耗高,满足不了大生产的需求。
2、球磨分散: 通过球磨机中磨球之间及磨球与缸体间相互滚撞作用,使接触钢球的粉体粒子被撞碎或磨碎,同时使混合物在球的空隙内受到高度湍动混合作用而被均匀地分散。
3、砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不过研磨介质是用微细的珠或砂。砂磨机可连续进料,纳米粉体的预混合浆通过圆筒时,在筒中受到激烈搅拌的砂粒所给予的猛烈的撞击和剪切作用,使得纳米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的浆离开砂粒研磨区通过出口筛,溢流排出,出口筛可挡住砂粒,并使其回到筒中。通过球磨机和砂磨机分散能取得较好的分散效果及物料细度,但球磨机和砂磨机同样无法避免处理效率低,能耗高的缺点。
3、高剪切分散机: 高剪切分散机的核心部件是定子/转子结构,转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来强劲的动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械剪切、液力剪切、离心挤压、液层磨擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺的条件下,瞬间均匀精细地分散,经过高频的循环往复,终得到稳定的高品质产品。与三辊机、球磨机、砂磨机相比,高剪切分散机具有效率高、能耗低等显著优点,是分散工艺的选。
4、超声波分散是降低纳米粒子团聚的有效方法。主要是基于超声波的特殊分散性能。超声波是频率范围在20~106kHz的机械波,其波速一般约为1500m/s,波长为10~0.01 cm。显然,超声波的波长远大于分子尺寸,说明超声波本身不能直接对分子产生作用,而是通过对分子周围环境的物理作用影响分子的,也即是利用超声空化作用所产生的冲击波和微射流所具有的粉粹作用,达到分散微粒的目的。 不太适合高粘度和工业化。
这里重点解释 分散基本情况是这样 :粉体和液体放在罐体行预混(利用关内的搅拌机搅拌),然后通过底部的超高速分散机循环分散但是还有个问题 纳米材料都比较轻 ,灰尘满天飞 ,如何解决大型纳米二氧化硅吸粉设备,解决纳米吸粉和团聚问题
核心设备高剪切粉液分散机EBI 2000在CIP条件下自动清洗。高剪切粉液分散机有两组设计。这允许它通过一组或两组转移产品这样的方式安装到生产设备中。高剪切粉液分散机第1组有一个底部搅拌器和一个在容器中能产生紊流、甚至对高粘度物料也能产生高循环能力的特殊泵转子。
高剪切粉液分散机EBI 2000的第二组配备定子转子系统,以确保保的均质化和紧密的粒度分布。没有额外真空泵,将粉末或液体直接吸入,高剪切粉液分散机EBI 2000的混合室中是可能的。高剪切粉液分散机EBI 2000是1组:预混罐内含独te的抽吸转子,用来抽吸湍流的液体对粘度达100,000 cp液体的循环容量高可在高压下进行CIP清洗,温和,不剧烈。高剪切粉液分散机EBI 2000第2组:选择合适的分散头,乳化后粒径小且精细,产品均一,即使在较长时间内也能保持稳定。无需附加真空泵即可将粉体直接吸入分散腔与固体混合预混罐内有一特殊的螺旋搅拌器,能保证罐内物料混合稳定充分。垂直与水平方向上混合充分特氟纶材质的刮板非常灵活,可逆向旋转,无死角,能够加热和冷却,而时间也被大大缩短。整个混合生产过程采用现代电子触屏式操作,具体可依据要求调整。
更新时间:2024/4/19 8:39:20
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