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难溶性药物纳米混悬液研磨分散机,纳米混悬液高剪切乳化机,混悬液高剪切纳米均质机
在药物制剂研发中,溶解度作为药物在胃肠道吸收利用的关键参数,高度影响药物的药动学和药代学。目40%已批准上市药物的溶解度很低,属于生物制药分类系统(BSC)的Ⅱ类和Ⅳ类。难溶性药物难以被机体吸收利用,导致其在胃肠道溶出度和生物利用度降低,个体内和个体间药代动力学变异性高,严重影响用药效果。
纳米混悬技术无需载体材料,仅需少量稳定剂,是一种可增加难溶性药物的溶解和吸收的新型纳米技术,且没有赋形剂带来的溶血、过敏等毒性问题,不受包封率及载药量的制约。通过加入不同类型的润湿剂和稳定剂等,以降低表面张力,增加分散介质的黏度、降低微粒的沉降速度,或通过静电或空间效应阻止粒子聚集或晶型转变从而提高纳米晶体混悬剂的稳定性。
那么在制备混悬液过程中,我们需要特别关注哪些因素呢?
粒径?温度控制?溶出?等等详情可致电上海依肯 徐工 182-0189-1183,公司可提供样机进行实验测试。
纳米混悬液研磨分散机, 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过高速研磨分散机定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
影响研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散腔体的停留时间,研磨均质时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列研磨分散机技术参数选型表
研磨分散机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
难溶性药物纳米混悬液研磨分散机,纳米混悬液高剪切乳化机,混悬液高剪切纳米均质机
更新时间:2024/4/19 8:40:24