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湿法粉碎机,API湿法粉碎机,原料药API湿法粉碎机,高速湿磨机,API原料药湿磨机,API分散机,原料药分散机
当API已经制备完成到达制剂人员手中时,API的粒径已经形成。那么制剂人员想要控制原料药粒径,有什么策略呢?这时就产生了第二种粒径控制策略,即原料药的粉碎。
粉碎是制药工业中常见的降低API粒径和(或)使API粒径均一化的方法,尤其对于水难溶性药物。粉碎可以看做是一种“从上至下”的过程,即大的粒径已经形成,再通过外力输入能量使大粒径API降低为小粒径。通常粉碎可以分为两大类:干法粉碎和湿法粉碎,湿法粉碎的介质为水或非水溶剂,干法粉碎的介质为空气、氮气、氩气等气体。两种粉碎的特点比较,一般湿法粉碎粒径可以达到纳米(如纳米晶制备通常选用该方法),干法粉碎粒径可以达到微米。当然湿法粉碎消耗的能量较多,干法粉碎消耗能量较少。湿法产生的颗粒较光滑,干法则相对粗糙等等。 
湿法粉碎机、湿磨机工作原理:此设备线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过高速湿法粉碎机、湿磨机定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。
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影响研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散腔体的停留时间,研磨均质时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列湿法粉碎机、湿磨机参数选型表
| 湿法粉碎机、湿磨机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
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