球形二氧化硅浆料研磨机，球形二氧化硅浆料研磨分散机，球形二氧化硅高剪切分散机，球形二氧化硅管线式分散机，球形二氧化硅浆料研磨分散设备

球形二氧化硅，是指颗粒个体呈球形，主要成分为二氧化硅的无定形石英粉体材料。球形二氧化硅主要用于集成电路封装，在航空、航天、精细化工、可擦写光盘、大面积电子基板、特种陶瓷及日用化妆品等技术域中也有应用。 随着我国电子信息产业的快速发展， 手机、个人电脑等越来越多的电子信息产品的产开始进入列，带动了我国集成电路市场规模的不断扩大。石英粉由于其具有高介电、耐热耐湿耐腐蚀、高填充量、低膨胀、低应力、低杂质、低摩擦系数等优越性能，在大规模、超大规模集成电路的基板和封装材料中成为不可缺少的优质材料。

对于研磨分散机而言，在很多场合下处理高粘度、大颗粒物料，所以一般选择比较大的功率电机，转速是国内普通研磨设备的3-5倍，研磨的力度也是他们的3-5倍，这样研磨的细度更小，研磨分散机是CM与ERS的结合体，倾向于各系列物料的研磨、分散、均质、乳化)。分两组模块结构，一组为CM模块的研磨结构，另一组为ERS模块的分散、乳化、均质结构，且研磨粒径比胶体磨更细，分散效果比ERS更佳。


影响研磨分散机效果的因素有哪些:

1、研磨分散头的形式（卧式和立式）；

2、研磨分散头剪切速率；

3、研磨分散头的齿形结构（齿形越细效果越好）；

4、研磨分散头物料在研磨分散腔体的停留时间，研磨分散时间（时间越长越好）；

5、循环次数（循环次数越多越好）。

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)   
                    g 定-转子 间距 (m)

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

– 磨头的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

CMSD2000系列研磨分散机参数选型表 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%

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更新时间：2024/5/9 13:34:20

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