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颜料研磨分散机,颜料研磨分散装置,颜料研磨分散设备技术工艺,高速分散机,高剪切研磨分散机
研磨分散就是为的将颜料、填料等固体粒子分散在树脂或分散剂中变成经过处理的粒子,从而可以变成流体而能成膜。为了提高研磨分散效果,人们一直在4个方向努力。 第1个方向 改善颜料、填料粒子的大小、形状和表面处理状态。 这个我们不多谈,分散就是要选择合适的颜填料来进行操作。但不同的表面处理往往影响较大,要特别注意选择。 第二个方向 提高树脂的分散性能。 树脂的性能对研磨分散影响很大,如羧基含量、羟基含量、苯环含量、及其他特殊链段含量,对分散性能有很大影响。 第三个方向 使用润湿分散剂。 润湿分散剂化学类型很多,分子量范围很大。 早期用较小分子量的润湿分散剂,现在已经发展到高分子量的分散剂,可以做无树脂色浆了。分散剂和树脂的界限已经打破了。 其实本来就没有界限。随着科技的发展,界限越来越少,万物一体就呈现了。 使用润湿分散剂的目的是多种多样,但根本目的是让分散剂代替颜填料界面的空气,并且结合的比较牢,从而将颜填料流体化。 润湿分散剂的不断创造展现了人的无穷智慧,既要和颜填料能结合,还要和树脂能相容。 在涂料里这个“既要什么,还要怎么”的句式是非常普遍的,用另一句话来说,既要功能性,还要相容性。 第四个方向 就是分散设备了。 随着对涂料性能要求的不断提高,随着颜填料粒径的纳米化,研磨分散机的单位体积输入能量一直在提高,现在的高速研磨分散机器输入能量已达到惊人的数字,这个数字还在突破。 由此可见,分散的重要性,说分散决定了涂料的质量,完全不过分。
高速研磨分散机, 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过高速研磨分散机定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。
影响研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散腔体的停留时间,研磨均质时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列研磨分散机参数选型表
研磨分散机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
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更新时间:2024/5/9 14:14:37