纳米混悬液研磨分散机，缓控释混悬液高剪切研磨分散机，医药混悬液高速研磨分散机，管线式混悬液研磨分散机，超高速研磨分散机，高剪切研磨分散机
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CMD2000系列医药混悬液研磨分散机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径微米0.2-2μm,可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液，悬浮液和胶体的均质混合。混悬液分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。
并且CMD2000系列各个环节都带有夹套,处理过程中可对物料进行温度控制;清洗方便，符合在线清洗和灭菌。采用胶体磨和分散机的一体化设计相对于胶体磨和分散机的串联而更具优势。串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，经过分散机分散，效果不是很好。而CMD超细研磨分散机的话,物料磨细后,瞬间又通过分散工作组，进行分散,在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用,效果会好很多。
纳米混悬液研磨分散机由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
上海依肯IKN纳米混悬液研磨分散机技术参数选型表：
| 研磨分散机型 号 | 流量L/H | 输出转速rpm | 线速度m/s | 马达功率kw | 出口/入口连接 |
| CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| CMD2000/5 | 1,000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| CMD2000/10 | 3,000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN50 |
| CMD2000/20 | 8,000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| CMD2000/30 | 20,000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| CMD2000/50 | 60,000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许的10%。
1、表中上限处理量是指介质为"水”的测定数据。
2、处理量取决于物料的粘度,稠度和终产品的要求。
3、如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况,必须提供准确的参数，以便选型和定制。
4、本表的数据因技术改动，定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
5、本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料;物料粘度或固含高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
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更新时间：2024/4/10 11:17:24
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