研磨分散（胶体磨）的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹，近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是，在某一能量水平上， 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。
       氢氧化镁阻燃剂胶体磨（研磨）通过皮带传送，可实现2到3倍的加速，同时立式直立的转轴，运转稳定性大大提高，同时转子动平衡性得到提高，间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式湿法粉碎机机有XX的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理，还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎，超细物料的均匀分散，以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨 也可以成为反应发生的场所，比如两种液体物料反应生成固体颗粒，通过分别通入腔体，两种物料接触时被剪切成微滴，均匀混合后反应生成的粒子大小均匀，并且粒径很小。

      氢氧化镁阻燃剂胶体磨，研磨分散机机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。第yi由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（分散头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。  
       CMSD2000系列氢氧化镁阻燃剂胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

 影响研磨分散结果的因素有以下几点：

1.胶体磨磨头头的剪切速率  （越大，效果越好）

2. 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

3.物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

4.线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60
氢氧化镁阻燃剂胶体磨研磨分散机设备选型表

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

氢氧化镁阻燃剂胶体磨，一种新型阻燃剂14000转高速胶体磨，无机阻燃剂胶体磨，改性氢氧化镁阻燃剂胶体磨，一种新型环保阻燃剂研磨分散机