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  • 产品名称:IKN纳米金属粉体超高速研磨分散机
  • 产品型号:CMD2000
  • 产品价格:118900
  • 产品产地:中国大陆
  • 访问次数:43 发布时间:2022/10/30 21:46:55
  • 简介内容:CMD2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液,超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,CMD在摩擦状态下工作,因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散效果。CMD2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。
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详细内容

IKN纳米金属粉体超高速研磨分散机

IKN纳米金属粉体超高速研磨分散机,纳米银粉超高速研磨分散机,纳米铝粉银粉研磨分散机,超高速耐磨分散机,机械法循环型研磨机,金粉耐磨高速分散机,珠光防伪变色油墨研磨分散机

   纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应,并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能,使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。

   目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟,它的应用也随之扩大。在其应用过程中,较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高,在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子,使颗粒粒径变大,从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性,提出了一些有效的方法。

   根据我司为多家客户定制方案,建议采用的方案为:在罐体内行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料;然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理!经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。

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   纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计,相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差,当物料通过胶体磨之后,磨细后物料会出现抱团的现象,再经过分散机分散,效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话,物料磨细后,瞬间又通过分散工作组,进行分散,在物料还未抱团之,就进行了分散,一个瞬间作用,效果会好很多。

从设备角度分析,影响分散结果的因素有以下几点:

1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好);

2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好);

3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好);

4 物料在分散腔体的停留时间,分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好);

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)。

纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构:
   第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。
第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

设备等:化工、卫生I、卫生II、无菌

电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达

电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

电机选配件: PTC 热保护、降噪型

均质机材质:SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti

均质机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

均质机表面处理:抛光、耐磨处理

进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍

均质机选配容器:本设备适合于种不同大小的容器.

IKN管线式研磨分散机的技术参数:

研磨分散机


流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型


l/h

rpm

m/s

kW


CMD   2000/4


700

14000

40

4

DN25/DN15

CMD   2000/5


5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMD   2000/10


10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMD   2000/20


30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMD   2000/30


60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMD   2000/50


100000

2,000

40

160

DN200/DN150


*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的10%。









1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和终产品的要求。

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更新时间:2023/9/19 7:23:28

标签:IKN纳米金属粉体超高速研磨分散机   纳米银粉超高速研磨分散机   纳米铝粉银粉研磨分散机   

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