氧化铝抛光液高剪切研磨机，抛光液高速研磨分散机，德国21000prm高速研磨分散机，纳米级研磨分散机

化学机械抛光技术(CMP)，使金属表面能达到一定的光亮度，且能使金属具有镜面效果，是将磨粒的机械研磨作用与氧化剂的化学作用有机地结合起来，可实现超精密无损伤表面加工。抛光液的性能对CMP效果有非常重要的作用和影响，特别是抛光液中的磨料粒径和磨料的分散均匀度直接影响着抛光面的光亮度。因此对抛光磨料比如氧化铝、氧化硅、碳化硅等磨料的配置进行研究有着非常重要的意义。进过IKN高剪切纳米胶体磨制备的氧化铝抛光液，分散度好，粒径分布均匀，流动性也好。

氧化铝抛光液高剪切研磨机，抛光液高速研磨分散机，德国21000prm高速研磨分散机，纳米级研磨分散机

氧化铝抛光液高剪切研磨机由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用优质不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三。每一的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是向外延伸一，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分：硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理，增强刀齿的硬度，起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、、处理量大、均质细化效果好。转速高可达14000rpm，配备ABB变频电机，研磨分散机是IKN研发工程师将胶体磨与分散机整合研发出来的一款新产品，此款产品是目市场上仅有的一款同时具备研磨、分散、乳化等多功能的一款研磨分散设备，研磨分散机是IKN与实验客户共同智慧的结晶。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。

5  本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

IKN德国氧化铝抛光液高剪切研磨机/三氧化二铝高速胶体磨/氧化铝研磨用设备

更新时间：2026/2/13 14:57:12

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