管状纳米石墨晶体研磨分散机,纳米碳管超高速分散机,易团聚碳素材料分散机,超高速纳米材料研磨分散机,适合研磨分散碳纳米管的设备,液相剥离纳米碳素材料分散设备,进口高品质分散机
纳米碳管(CNT),管状的纳米石墨晶体,是单层或多层石墨片围绕中心轴按一定的螺旋角卷曲而成的无缝纳米管,每层的C是SP2杂化,形成六边形平面的圆柱面。碳纳米管同样也有天然产出的碳晶特性。我们国内已经生产出长管,短管,羟基化碳管,羧基化碳管,高导电碳管,镀镍碳管,可溶性碳纳米管。碳纳米管可以做一些表面处理,经过表面处理后,可以溶在乙醇和丙酮中。镀镍碳纳米管广泛应用在防屏蔽上。在碳纳米管的产能上我国有以“南风化工”为代表的开发应用。
我们知道普通的机械搅拌与研磨只能使碳纳米管团聚体宏观地与基体粉体混合,对碳纳米管团聚体自身的分散无能为力;球磨可以碾断碳纳米管,分散碳纳米管团聚体,但也会使碳纳米管更加致密地粘结在一起,同时球磨本身是依靠设备内的钢球对物料进行冲击破碎,很容易损坏碳纳米管特有的结构,从而大程度影响了其性能;超声波处理同样有此特点,且超声波的处理量小,效率慢;添加表面活性剂及酸碱洗涤的方法,可以使团聚体表面的絮状碳纳米管从团聚体上断开、分散,对于紧密缠结在一起的碳纳米管效果不显著。目大多数厂家都在使用我司高剪切研磨分散机进行碳纳米管浆料的处理,研磨分散机是将胶体磨(研磨机)和分散机合二为一的设备。工作原理为定转子高速运转产生强大的剪切力、离心力,对物料进行剪切、剥离、分散、细化。所以特别适合碳纳米管浆料的生产,并且不容易破坏片层结构。
IKN研磨分散机的技术参数: 高速研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
IKN研磨分散设备具有大的灵活性,同时可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。如果需要的话,也可以更换成胶体磨。设备结构为三道磨碎区,一为粗磨碎区,二为细磨碎区,三为超微磨碎区,虽然都是三结构,但是他们的设计不同理念不同,形状及齿列的结构,沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅,配置有金属碳化物或陶瓷涂层的锥型转子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蚀。
影响纳米碳素材料研磨分散效果的因素:
1 磨头的形式(卧式和立式)
2 磨头头的剪切速率
3 磨头的齿形结构(见磨头结构)
4 物料在磨头墙体的停留时间,乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,研磨速率取决于以下因素: -
- 磨头的线速率
- 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 (相对而言)
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
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更新时间:2024/4/24 8:44:16
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