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阅读次数:1797 发布时间:2023/5/19 17:53:30
原料药公司研发生产用高速研磨均质机,原料药实验室用研磨均质机,生物制药公司研发用胶体磨 ,原料药在线式胶体磨,原料药湿磨机
原料药的研磨均质预处理一般是固体制剂工艺的第1步操作,它会直接影响原料的粒度分布,进而影响产品的质量,可能影响包括:物料混合的均匀性、颗粒的含量均匀度、压片或干法制粒时的压缩成型性、以及药物的溶出行为等。所以一般会把原料的粒径控制列为关键工艺参数,而目标粒径的选择同原料的溶解性、研磨均质设备及参数的相关性较大,例如如果是像BCSⅠ类高溶解性的药物,它是以药物与辅料混合的混合均匀性为主要考察指标;而像BCSⅡ/Ⅳ类低溶解性的药物,则主要以通过粉碎工艺减小粒径来提高药物的溶解度为主要目的,那无论是哪种溶解性的药物,终还是要通过制剂工艺、体外溶出和体内试验来确定原料粒度的目标粒径范围。
湿法研磨均质 湿法研磨均质的介质一般为水或非水溶剂,将原料分散在液体中,泵送通过研磨均质室。原料在液体中移动并在研磨介质中被压碎。湿法研磨均质使用再循环过程,将液体反复暴露于研磨均质介质,直到达到所需的粒度。湿法粉碎区别于干法粉碎明显的优势是它可以克服粉碎过程中粉尘飞扬的问题,并可以通过淘析、沉降或离心分离等方法分离出所需的物料。
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所以上海依肯机械设备有限公司根据客户的需求和结合以往许多成功案例的基础上特别推出高速纳米研磨均质机 CMSD2000系列:CMSD2000系列研磨均质机的结构:研磨式均质机是由锥体磨,均质机组合而成的高科技产品。第yi由具有经细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散均质头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
适用工艺:CMSD研磨均质机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。在纳米研磨分散均质机运作的过程中,转轴以及转轴上各个零部件都是处于高速运转的状态,研磨定转子部分会带动研磨介质与物料产生强烈的碰擦与撞击,以起到磨细物料和分散均质团聚体的作用。同时,物料经过研磨后,通过泵叶的巨大吸力,使其被吸出研磨篮,然后再由分散盘对其进行分散均质处理,这样就可以在很短的时间内获得理想的研磨均质效果。
ikn研磨均质机为通用研磨,混合、分散、均质的设备,经过研磨,混合、分散、均质后的物料能够保持在容器内均匀分散,终保持物品的质量一致,不会因为物料分布不均匀造成产品质量问题。可以在360度进行回转,采用无变速,ikn研磨分散均质机的外表美观,升降系统平稳灵活,而且操作起来十分方便,结构也非常的牢固、耐用。分散机的品种十分齐全,可以满足用户各种不同的生产需求。液压升降型特别适用于大功率的研磨和细化,升降起来平稳,结构十分牢固,并且使用寿用长。研磨分散均质机能够根据工艺的要求,选择防爆型或者普通型。均质机架体采用碳钢刷的色漆,也可定制成不锈钢表面的抛光。
CMSD 2000系列研磨均质机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
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原创作者:上海依肯机械设备有限公司